江南烟雨人 发表于 2014-12-8 23:19:18

金属薄膜样品制备相关问题

电子束对金属薄膜的穿透能力和加速电压有关,当加速电压为200Kv时,电子束的穿透能力为500nm;当加速电压为1000Kv时,电子束的穿透能力为1500nm。而且对样品的要求如下:
1、一般金属样品的厚度为500nm;2、样品制备过程中不能改变样品的组织结构;3、薄膜应该有一定的强度,造作过程不变形;4、不产生氧化和腐蚀。

其制备工艺过程可分三个步骤:
1、切割成“薄块”,厚度为0.2-0.5mm(有色金属为0.5mm,钢为0.2-0.3mm)
2、预减薄成“薄片”,厚度为0.05-0.07mm。(砂纸上磨或化学腐蚀后再磨)
3、减薄成“薄膜”,<500nm(使用双喷电解抛光法,穿孔法或双离子束减薄穿孔法)
西安分舵
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