ysu007 发表于 2015-1-28 14:27:00

磁控溅射是不是属于离子注入的一种？离子注入是怎么注入的？

求大神解答

thunder17 发表于 2015-3-8 09:05:27

它们两个是有区别的，磁控溅射是指通过离子轰击靶材，把靶材中材料以分子离子形式轰击出来，这些粒子最终在基片上沉积，形成薄膜。而离子注入是先把靶材离子化，在基片上通很大的电压，靶材离子在电场力的作用下，注入基片。个人见解，希望对你有所帮助。

Alant 发表于 2015-4-14 18:50:29

{:soso_e179:}

无法拥抱的阿银 发表于 2015-4-22 23:59:10

楼上说的对
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