影响光学膜层质量的十大工艺因素
本帖最后由 thunder17 于 2015-5-10 20:29 编辑工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为：
一. 基片材料
1. 膨胀系数不同 热应力的主要 原因； 2. 化学亲和力不同 影响膜层附着力和牢固度； 3. 表面粗糙度和缺陷 散射的主要来源。
二. 基片清洁 残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1. 膜层对基片的附着力差；2. 散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3. 透光性能变差。
三. 离子轰击的作用 提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和 抗激光损伤阈值提高。
四. 初始膜料 化学成分（纯度/杂质种类）、物理状态（粉/块）和 预处理（真空烧结/锻压）影响膜层结构和性能。
五. 蒸发方法 不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、 附着力有差异。
六. 蒸发速率 速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、应力、 附着力有明显影响。
七. 真空度 对膜层聚集密度，化学成分有影响，从而使膜层的 折射率、硬度，牢固性发生变化。
八. 蒸气入射角 影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率 和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。
九.基片温度 宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力和硬度都会因基片温度的不同而有较大差异。
十 . 镀 后 烘 烤 处 理 有助于应力释放和环境气体分子及膜层分子的热迁移，可使膜层结构重组。因此，可使膜层折射率、应力、硬度有较大改变。
以上所述的10个工艺因素对膜层性能的影响，是依据实际工艺项目和膜层宏观性能统计汇总得出的。 10工艺{:soso_e179:} Alant 发表于 2015-5-11 07:19
10工艺
沐沐，帮忙捧场啦 哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈 {:4_116:}{:4_116:}{:4_116:} {:4_107:}{:4_107:}{:4_107:}{:4_107:}
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