【薄膜技术】化学气相沉积CVD汇总（全英）
本帖最后由 箜小天 于 2017-6-30 19:23 编辑本次为大家分享的书籍资源主题是——化学气相沉积CVD！
化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。
CVD技术常常通过反应类型或者压力来分类，包括低压CVD(LPCVD)，常压CVD(APCVD)，亚常压CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等离子体增强CVD(PECVD)，高密度等离子体CVD(HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)，还有金属有机物CVD(MOCVD)，根据金属源的自特性来保证它的分类，这些金属的典型状态是液态，在导入容器之前必须先将它气化。
CVD技术用到的设备很简单，就是大家自家实验室都有的管式炉！从设备部分划分，完整的设备包括反应室（CVD心脏）、真空排气系统、温度控制系统、压力控制系统、气源控制系统等五大部分（我不会告诉你，楼主昨天刚考过这些知识点(｡・`ω′･)~
了解了CVD的简单原理，想掌握这门材料人必会的制备技术，当然必须要有扎实的理论基础，下面给大家分享数本相关书籍（全英版本，顺便提升一下专业英语水平，我就是这么贴心~）
一、《Principles Of CVD》By Daniel M.Dobkin等
简介：这本书的目的是以通俗易懂的方式介绍进行化学气相沉积（CVD）过程以及反应室中是如何工作的。本书目标人群不是该领域的专家，而是那些熟练掌握该工艺，却没有机会深入了解学习相关原理的人。我们尽力使我们的讨论尽可能简单，同时仍然基本正确。我们的例子和应用讨论的重点是用于微电子制造的CVD，但热和质量传输、化学和等离子体产生的原理适用于所有的CVD过程。本书综述了理解化学气相沉积过程所需的热力学、统计力学、化学和电磁学等方面的知识，也可作为基础书籍学习。
二、《Chemical Vapour Deposition》By Jong-Hee_Park等
简介：化学气相沉积（CVD）在材料加工技术中有着广泛的应用，这个它的大多数应用是在表面上沉积固体薄膜，但它也被用来生产高纯块体材料和粉末，以及制造复合材料。本书的目的基于CVD工艺，为工程设计、发展和生产中的重要表面工程技术提供实际参考信息、“how-to”引导以及应用信息。本书不仅适用于操作CVD的老司机也适用于新手的参考手册，可作为工科大学生或研究生的教科用书。
三、《Chemical Vapour Deposition》By Xiu-Tian Yan,Yongdong Xu（西工大徐永东教授遗作）等
简介：本书详细介绍了CVD方法的基础、物理原理、热力学和动力学原理、CVD过程中微结构和过程的控制等，内容翔实丰富，十分可读，楼主强烈推荐。
四、《CVD for Nonmetal》By Toivo_Kodas,_Mark_J._Hampden-Smith
简介：本书出版于1996年，介绍了CVD技术在沉积非金属薄膜方面的应用，是一本侧重于工程实际应用的参考书，可作为CVD技术新手的入门书籍！
五、《Handbook for CVD》By Hugh Pierson
简介：本书的目标人群是学生、科学家和工程师以及材料、设备和服务的生产和销售管理人员和供应商。作者很荣幸有机会作为一名顾问，对光学、光电子、冶金等领域的广泛的行业的CVD工艺、设备、材料和应用进行审查和研究。
本书分为三部分内容：第一部分是对CVD的综述，包括基础物理化学理论，用于科研和生产的CVD系统和设备，包括先进的等离子体、激光、光子CVD等；第二部分是对CVD沉积材料的综述，即金属、非金属元素、陶瓷和半导体，以及在沉积过程中使用的反应；第三部分描绘了CVD技术的现代应用和未来展望。
下面给大家列出资源，请对号自取：
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