电子束对金属薄膜的穿透能力和加速电压有关，当加速电压为200Kv时，电子束的穿透能力为500nm；当加速电压为1000Kv时，电子束的穿透能力为1500nm。而且对样品的要求如下：
1、一般金属样品的厚度为500nm；2、样品制备过程中不能改变样品的组织结构；3、薄膜应该有一定的强度，造作过程不变形；4、不产生氧化和腐蚀。

其制备工艺过程可分三个步骤：
1、切割成“薄块”，厚度为0.2-0.5mm（有色金属为0.5mm，钢为0.2-0.3mm）
2、预减薄成“薄片”，厚度为0.05-0.07mm。（砂纸上磨或化学腐蚀后再磨）
3、减薄成“薄膜”，<500nm(使用双喷电解抛光法，穿孔法或双离子束减薄穿孔法)

电子束对金属薄膜的穿透能力和加速电压有关，当加速电压为200Kv时，电子束的穿透能力为500nm；当加速电压为1000Kv时，电子束的穿透能力为1500nm。而且对样品的要求如下：
1、一般金属样品的厚度为500nm；2、样品制备过程中不能改变样品的组织结构；3、薄膜应该有一定的强度，造作过程不变形；4、不产生氧化和腐蚀。

其制备工艺过程可分三个步骤：
1、切割成“薄块”，厚度为0.2-0.5mm（有色金属为0.5mm，钢为0.2-0.3mm）
2、预减薄成“薄片”，厚度为0.05-0.07mm。（砂纸上磨或化学腐蚀后再磨）
3、减薄成“薄膜”，<500nm(使用双喷电解抛光法，穿孔法或双离子束减薄穿孔法)