磁控溅射是不是属于离子注入的一种？离子注入是怎么注入的？

ysu007

求大神解答

thunder17 · 发表于 2015-3-8 09:05:27

它们两个是有区别的，磁控溅射是指通过离子轰击靶材，把靶材中材料以分子离子形式轰击出来，这些粒子最终在基片上沉积，形成薄膜。而离子注入是先把靶材离子化，在基片上通很大的电压，靶材离子在电场力的作用下，注入基片。个人见解，希望对你有所帮助。

Alant · 发表于 2015-4-14 18:50:29

无法拥抱的阿银 · 发表于 2015-4-22 23:59:10

楼上说的对

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