靶“中毒”
在前文中沐沐为大家介绍了反应磁控溅射,如果你错过了,请戳here在反应磁控溅射中,由于反应气体与靶材材料的反应位置并不固定,既可能在基材附件,也可能在靶材处及运输过程中。当反应气体与靶材材料在在靶材处反应时,将有可能形成一些高熔点,不导电的化合物,当这些不导电物质物质大面积附着在靶材表面时,则会引起靶材处的电荷积累,当电荷积累到了一定程度,稳定的辉光放电将会被弧光放电所取代。影响溅射的进行,极其稳定性。这种现象叫做靶中毒。
关于靶中毒的研究学者们做了大量研究,并提出了一些改进措施,例如采用射频、中频、脉冲电源,分级送气等。
反应气体,反应位置,靶材处 高熔点不导电化合物,电荷积累,弧光放电,靶中毒。射频、中频、脉冲电源,分级送气。
Alant 发表于 2015-4-10 17:57
反应气体,反应位置,靶材 ...
神总结诶 {:4_116:}{:4_116:}{:4_116:} {:4_107:}{:4_107:}
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