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魏荣华关于等离子增强磁控溅射的研究

本帖最后由 thunder17 于 2015-7-9 20:26 编辑

传统的PVD镀膜技术形成的膜层厚度一般在1μm左右,而美国西南研究所的魏荣华(Ronghua Wei)利用等离子增强磁控溅射(Plasma Enhanced Magnetron Sputtering,PEMS)技术成功制备厚度可达40μm的厚膜,这种厚膜在防硬物冲蚀方面有着广泛的应用前景。例如应用于喷气式发动机压缩机叶片、高压汽轮机叶片等。本文将简要介绍其研究成果。
1.jpg
上图是PEMS设备示意图。从图中可以看出PEMS与普通的磁控溅射相比无非是在中空室中加入了一个外加灯丝,作为电子发射源。但是这种改进的作用是显著的,其电流密度提高了近25倍。制备出的薄膜在硬度,摩檫学性能以及耐冲蚀性能等方面均显著提高。 A comparative study of conventional magnetron sputter deposited and plasma enhan.pdf (1022.83 KB, 下载次数: 7)
thunder17

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航行的MINI 发表于 2015-11-2 12:02:44
这么好的帖子没人?
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