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魏荣华关于等离子增强磁控溅射的研究

本帖最后由 thunder17 于 2015-7-9 20:26 编辑

传统的PVD镀膜技术形成的膜层厚度一般在1μm左右,而美国西南研究所的魏荣华(Ronghua Wei)利用等离子增强磁控溅射(Plasma Enhanced Magnetron Sputtering,PEMS)技术成功制备厚度可达40μm的厚膜,这种厚膜在防硬物冲蚀方面有着广泛的应用前景。例如应用于喷气式发动机压缩机叶片、高压汽轮机叶片等。本文将简要介绍其研究成果。
上图是PEMS设备示意图。从图中可以看出PEMS与普通的磁控溅射相比无非是在中空室中加入了一个外加灯丝,作为电子发射源。但是这种改进的作用是显著的,其电流密度提高了近25倍。制备出的薄膜在硬度,摩檫学性能以及耐冲蚀性能等方面均显著提高。 A comparative study of conventional magnetron sputter deposited and plasma enhan.pdf (1022.83 KB, 下载次数: 7)

在此基础上,魏荣华教授制备了多种氮化物的涂层,并对其工艺参数进行了优化。
Deposition of thick nitrides and carbonitrides for sand erosion protection.pdf (6.36 MB, 下载次数: 7) Erosion Resistance of Thick Nitride and Carbon.pdf (290.21 KB, 下载次数: 2)

其中,TiSiN薄膜具有较高的硬度及热稳定性,但其摩擦系数较高,加入C会使其性能有所改善。在其文章中,魏教授对于引入硅的办法进行了论述,其主要采用有机气体TMS(tetramethyl silicane)、HMDSN(hexamethyldisilazane)引入Si、C,这种方法与使用镶嵌靶相比薄膜成分更加可控,并且气体不易燃,更加安全。
PEMS deposition of Ti-Si-C-N based nanocomosit.pdf (1.09 MB, 下载次数: 2) Microstructure and tribological performance of.pdf (817.83 KB, 下载次数: 2)

其他研究者在TiSiCN四元组分的基础上又有分别在其中加入了O、Al、Cr。O元素加入后,TiSiCN薄膜的硬度有所下降,摩擦系数有所上升,但结合强度显著提高。
Evaluation of mechanical properties of Ti(Cr)S.pdf (4.65 MB, 下载次数: 2)

Al、Cr元素加入后,TiSiCN薄膜的硬度及韧性均有所下降,但其热硬性有所增加。
Comparative investigation of Al- and Cr-doped.pdf (1.31 MB, 下载次数: 2)



thunder17

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沙发
航行的MINI 发表于 2015-11-2 12:02:44
这么好的帖子没人?
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