魏荣华关于等离子增强磁控溅射的研究

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发布时间: 2015-7-8 21:32

本帖最后由 thunder17 于 2015-7-9 20:26 编辑传统的PVD镀膜技术形成的膜层厚度一般在1μm左右，而美国西南研究所的魏荣华（Ronghua Wei）利用等离子增强磁控溅射（Plasma Enhanced Magnetron Sputtering，PEMS ...

航行的MINI 发表于 2015-11-2 12:02:44

这么好的帖子没人？

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