本书由Kiyotaka Wasa于1992年完成,全书为英文版,想啃生肉的小伙伴们抓紧喽。PS:希望对你的科研有所帮助。
PPS:本书部分目录
1. THIN FILM MATERIALS AND DEVICES 1
1.1 Thin Film Materials . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 1
1.2 Thin Film Devices . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
1.3 References. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
2. THIN FILM PROCESSES . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .10
2.1 Thin Film Growth Process . . . . . . . . . . . . . . . . . . .10
2.1.1 Structural Consequences of the Growth Process . . . . . . . .13
2.1.1.1 Microstructure. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 13
2.1.1.2 Surface Roughness . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
2.1.1.3 Density. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 17
2.1.1.4 Adhesion. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. 18
2.1.1.5 Metastable Structure . . . . . . . . . . . . . . . . . . .18
2.1.2 Solubility Relaxation. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 19
2.2 Thin Film Deposition Process . . . . . . . . . . . . . . . . . 19
2.2.1 Classification of Deposition Process . . . . . . . . . . . . 19
2.2.2 Deposition Conditions . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .29
2.3 Characterization. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .37
2.4 References. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .47
3. SPUTfERING PHENOMENA . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .49
3.1 Sputter Yield. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 49
3.1.1 Ion Energy. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .50
3.1.2 Incident Ions, Target Materials. . . . . . . . . . . . . . . 54
3.1.3 Angle of Incidence Effects . . . . . . . . . . . . . . . . . 57
3.1.4 Crystal Structure of Target . . . . . . . . . . . . . . . . .59
3.1.5 Sputter Yields of Alloys . . . . . . . . . . . . . . . . . . 61
3.2 Sputtered Atoms . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .64
3.2.1 Features of Sputtered Atoms . . . . . . . . . . . . . . . . .64
3.2.2 Velocity and Mean Free Path . . . . . . . . . . . . . . . . .65
3.2.2.1 Velocity of Sputtered Atoms . . . . . . . . . . . . . . . .65
3.2.2.2 Mean Free Path . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 70
3.3 Mechanisms of Sputtering . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 71
3.3.1 Sputtering Collisions . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .71
3.3.2 Sputtering . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .73
3.4 References. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .78
4. SPUITERING SYSTEMS. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 81
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